详细信息
一、产品简介
台阶仪采用接触式表面形貌测量，是传统表面形貌测量的一个新发展，接触力最小可达1mg，对测量表面反光特性、材料种类、材料硬度都没有特别要求，样品适应面极广，数据复现性高、测量稳定、便捷、高效，是微观表面测量中使用最广泛的微纳样品测量手段。
CP200台阶仪是中图仪器股份有限公司拥有自主独立知识产权的一款先进微纳测量仪器，仪器采用亚埃级分辨率的位移传感器、超低噪声信号采集、超精细的运动控制、标定算法等核心技术，具有优良的使用性能。仪器通常使用2μm半径的金刚石针尖来扫描被测样品表面，通过一个超精密的载物台在测针下移动样品，测针的垂直位移被转换为与特征尺寸相对应的电信号。然后将这些电信号转换为数字格式，数据点可以显示在计算机屏幕上并进行操作以确定有关表面的各种分析信息。可以微调扫描长度和扫描速度，以增加或减少分析时间和分辨率。此外，测力可以变化以适应硬质或软质材料表面。 台阶仪广泛应用于：大学、研究实验室和研究所、半导体和化合物半导体、高亮度LED、太阳能、MEMS微机电、触摸屏、汽车、医疗设备。
二、产品功能
1、台阶高度
能够测量几个纳米到330μm的台阶高度。这使其可以准确测量在蚀刻、溅射、SIMS、沉积、旋涂、CMP等工艺期间沉积或去除的材料。
2、纹理：粗糙度和波纹度
测量2D纹理，量化样品的粗糙度和波纹度。软件过滤功能将测量值分离为粗糙度和波纹度的部分，并计算诸如均方根（RMS）粗糙度等20余项粗糙度参数。
3、形状：翘曲和形状
可以测量表面的2D形状或翘曲。这包括对晶圆翘曲的测量，例如在半导体或化合物半导体器件生产过程中，多层沉积层结构中层间不匹配是导致这类翘曲产生的原因。还可以量化包括透镜在内的结构高度和曲率半径。
4、应力：薄膜应力
能够测量在生产中包含多个工艺层的半导体或化合物半导体器件所产生的应力。使用应力卡盘样品支撑在中性位置精确测量样品翘曲。然后通过应用Stoney方程，利用诸如薄膜沉积工艺的形状变化来计算应力。
5、接触缺陷复检：缺陷表面形貌
三、典型应用
半导体应用◆ 沉积薄膜的台阶高度 ◆ 抗蚀剂（软膜材料）的台阶高度 ◆ 蚀刻速率测定 ◆ 化学机械抛光（腐蚀、凹陷、弯曲） | 
大型基板应用◆ 印刷电路板（突起、台阶高度） ◆ 窗口涂层 ◆ 晶片掩模 ◆ 晶片卡盘涂料 ◆ 抛光板 |
玻璃基板及显示器应用◆ AMOLED ◆ 液晶屏研发的台阶步级高度测量 ◆ 触控面板薄膜厚度测量 ◆ 太阳能涂层薄膜测量 | 
柔性电子器件薄膜应用◆ 有机光电探测器 ◆ 印于薄膜和玻璃上的有机薄膜 ◆ 触摸屏铜迹线 |
恳请注意：因市场发展和产品开发的需要，本产品资料中有关内容可能会根据实际情况随时更新或修改，恕不另行通知，不便之处敬请谅解。